일반기술

액정표시소자의 제조방법

기술의 개요 - 본 기술은 액정표시소자의 제조방법에 관한 것이다.기술의 특징 - 본 기술은 투명 절연기판상에 다결정 실리콘을 형성하고 패터닝하여 반도체층을 형성하는 공정과, 반도체층상에 게이트 절연막을 형성하고 게이트 절연막상에 전극물질을 증착하고 채널영역상에만 남도록 패터닝하는 공정, 패터닝 되어진 게이트 전극을 마스크로 하여 반도체층에 불순물 이온주입을 하고 열처리 공정으로 소오스/드레인 영역 및 화소전극 영역을 형성하는 공정, 전면에 제1층간 절연막을 형성한 후 소오스 영역상의 게이트 절연막, 제1층간 절연막을 일부 제거하여 콘택홀을 형성하는 공정, 금속을 증착하고 패터닝 하여 콘택홀상에 금속전극을 형성하는 공정, 전면에 제2층간 절연막을 형성하고 화소전극 영역의 제1,2층간 절연막을 일부 제거하는 공정과, 전면에 투명전극 물질인 ITO를 증착하여 패터닝하여 스토리지 커패시터의 상부전극을 형성하는 공정, 전면에 보호막을 증착하는 공정으로 구성되어 있는 것이 특징이다.기술의 효과 - 본 기술은 스토리지 커패시터(Storage Capacitor) 부분을 투명하게 형성하여 개구율을 향상시키는데 적당하도록 한다.