일반기술
레이저 매질 성장 장치 및 방법
- 개요 본 기술은 레이저 매질 성장 장치 및 방법에 관한 것임.- 특징 도핑이 된 물질과 도핑이 되지 않은 물질(UN-DOPING)을 각각 준비하는 단계와, 도핑되지 않은 물질을 도가니에 넣어 히터 및 보온재를 통해 용융시킨 후, 차폐막으로 용융된 물질을 덮는 단계와, 차폐막 위에 준비된 도핑된 물질을 넣고 히터 및 보온재를 통해 용융시키는 단계와, 도가니에 용융되어 있는 도핑된 물질의 표면에 씨드결정을 접촉시키고, 회전시키면서 서서히 들어올려 성장하는 단계와, 성장되는 도핑된 물질의 결정화가 차폐막 가까이 까지 이루어지면 차폐막을 개방하는 단계와, 개방된 차폐막 아래 부분에 있던 언-도핑된 물질을 씨드결정에 성장된 도핑물질에 이어서 성장시킨 후, 결정화하는 단계를 포함하여 이루어짐.- 효과 고출력 레이저 소스 개발에 장애가 되는 열 렌즈 문제를 완화할 수 있는 레이저 매질을 성장시킬 수 있음.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-12
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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