일반기술

나노임프린팅을 이용한 광자결정용 나노 패터닝 공정기술

<기술의 개요>- 고휘도 LED 시장의 규모는 계속 팽창하여 LCD BLU, 자동차, full color display, 조명으로 응용분야가 확대될 것으로 예측되어 GaN계 고휘도LED의 비중은 더욱 커질 것으로 예측- 광결정(Photonic Crystal) 소자 구현을 위한 나노 패터닝 기술은 형성된 패턴 사이즈에 따라 UV, 적색, 녹색, 청색 LED에 모두 적용할 수 있으며, 이 기술이 적용된 고휘도 LED는 신호등, 전광판 또는 LED BLU에 적용 가능하며, 나아가 일반 조명에도 적용 가능하다.- 몰드와 고분자의 접착을 방지 하기 위한 표면 처리 기술- 식각을 위하여 3:1 이상의 높은 종횡비(aspect ratio)의 패턴- 개발된 기술을 이용하여 발광소자의 출력향상에 기여할 수 있을 것이며, 2007년 하반기 반도체 광원 시험생산센터에서 도입 예정인 나노 임프린트 설비를 이용하여 LED 업체에서 고휘도 LED 개발에 응용 할 수 있도록 지원 예정- 나노 기술을 발광소자에 적용 하여 생산 할 수 있는 기초 실험을 완료 하였으며, 형성된 나노 기술을 광자결정이외에 나노 ELOG, SPR 등의 발광소자의 효율 향상 공정에 응용이 가능 할 것으로 보인다.<기술의 특징>- 저가의 나노 임프린팅 공정을 이용하여 고휘도 LED의 가격 경쟁력 확보- 기타 나노 패터닝 방식에 비해 안정적인 공정을 확보 할 수 있어 생산성 향상에 기여<기술 및 시장동향>- LED 기술은 Lumileds, Osram, Nichia, Cree 등 해외 선진사들이 주도 하고 있다.- LED 휘도 향상을 위하여 에피성장 기술 뿐만 아니라 저온 p-GaN 성장기술, Laser lift-off 기술, Wafer bonding 기술 등 칩 공정기술 확보에 사활을 걸고 있다. - 나노 임프린팅 기술은 저가의 나노 패터닝 기술을 제공하여 발광 소자의 외부 추출 효율을 향상시킬수 있는 광결정(Photonic Crystal) 소자의 대량 생산을 위한 핵심 기술이다.