일반기술
이방성 식각을 이용한 다단계 구조물 제조방법 및 다단계구조물
- 개요 본 기술은 이방성 식각을 이용한 다단계 구조물 제조방법 및 다단계구조물에 관한 것임.- 특징 실리콘기판 상에 간격이 변동하는 다수개의 슬릿을 마스크하는 마스크도포단계와, 마스크도포단계에서 마스크된 기판을 이방성 플라즈마 식각 방법으로 식각하는 식각단계와, 식각단계에서 식각된 기판상의 마스크를 세정하는 마스크세정단계와, 마스크세정단계에서 세정된 기판을 등방성 식각을 통해서 슬릿간의 격벽을 제거하는 격벽제거단계를 포함하여 구성됨.- 효과 공정을 줄임으로서 제작비를 절감함과 아울러, 제작 오차를 줄여줌.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-13
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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