일반기술
환형 셔터 미러와 그 제조방법 및 그를 이용한 이종 광픽업 장치
기술의 개요 - 본 기술은 타겟쪽으로 진행하는 광범의 일부를 그 진행방향으로부터 선택적으로 차단할 수 있는 환형 셔터 미러에 관한 것이다.기술의 특징 - 본 기술은 입사광빔의 입사각도에 따라 일정한 각도로 반사시키는 고정 반사수단과, 고정 반사수단의 주변에 환형 띠의 형태로 나란하게 형성되어 전계의 존재여부에 따라 선택적으로 입사광빔을 고정 반사영역의 반사각과는 상이한 각도로 반사시키는 적어도 하나 이상의 가용성 반사수단으로 구성되어 있는 것이 특징이다.
기술정보
- 기술분류
- 정보 > 기타 정보
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-18
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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