일반기술
전반사 프리즘 및 이를 이용한 화상 투사장치
본 기술은 전반사 프리즘 및 이를 이용한 화상 투사장치에 관한 것으로 특히, 화상 투사장치를 박형화 함과 아울러 휘도를 향상시킬 수 있도록 한 전반사 프리즘 및 이를 이용한 화상 투사장치에 관한 것이다.- 특징광학계로부터 광빔을 입사받은 프리즘에 화상빔을 투사렌즈로 전송하기 위하여 한번의 전반사를 하게된다. 따라서, 전반사에 의해 발생되는 밝기의 손실, 즉 휘도의 저하를 최소화할 수 있다.화상 표시소자가 프리즘의 측면에 설치되고, 컬러휠 및 광학계와 프리즘 및 투사렌즈가 나란하게 배치되기 때문에 화상 투사장치를 박형화할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-19
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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