일반기술
질화물 기판 제조 장치 및 그 방법
- 개요 본 기술은 질화물 기판 제조 장치 및 그 방법에 관한 것임.- 특징 서셉터가 안착되는 영역에 대응되는 챔버의 외벽에 주입구를 형성하고, 형성한 주입구를 통해 미량의 분출 가스를 주입함.- 효과 서셉터에 의해 지지되는 기판 상부에서 반응하는 질화물 생성 가스들의 간섭을 줄여 와류의 발생을 최소화시키고, 더불어 챔버의 외벽에 달라붙는 부산물을 줄여 양질의 질화물 기판을 얻을 수 있음.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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