일반기술
반도체 레이저 다이오드 제조방법
기술의 개요 - 본 기술은 반도체 레이저 다이오드 제조방법에 관한 것이다.기술의 효과 - 본 기술은 활성영역을 중심으로 형성되는 P형 및 n형의 클래드층을 대칭적 구조로 형성함으로써 빛의 분포를 원형에 가깝게 하여 비점수차를 줄일 수 있으며 절연막을 형성하여 전류의 흐름을 보다 더 제한함으로써 문턱 전류밀도를 낮추는 효과를 도출한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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