일반기술
매립형 반도체 레이저 다이오드
기술의 개요 - 본 기술은 반도체 레이저 다이오드에 관한 것으로 선택적 에피택시 방법으로 고효율 및 낮은 문턱 전류를 갖는 매립형 반도체 레이저 다이오드 제조방법에 관한 것이다. 기술의 특징 - 본 기술은 기판위에 DH 구조를 선택적 성장법으로 메사 구조를 형성하고 DH 구조 맨위에 산화 방지층을 형성한 것을 특징으로 한다.기술의 효과 - 본 기술은 고효율 및 낮은 문턱 절류를 갖는 레이저 다이오드를 제조할 수 있고 메사 형태를 구성하는 구성 물질 및 구조에 제한을 받지 않아 다양한 매립형 반도체 레이저 다이오드를 제작할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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