일반기술
광도파로 제조 방법
본 기술은 광도파로 제조에 관한 것으로, 특히 광도파로의 손상을 최소화할 수 있는 광도파로 제조 방법에 관한 것이다.- 특징하부 클래딩층상에 선택적인 광도파로를 형성할 때포토레지스트를 마스크로 하는 식각 공정이 필요없으므로 종래 기술과 같은 포토마스크의 오염 및 광학 폴리머층이 손상을 막을 수 있을 뿐만 아니라 공정을 단순히 함으로써 생산비용을 절감할 수 있다.포토마스크의 정렬 공정이 필요없고, 코아층에 사용되는 고분자를 스핀코딩하지 않음으로써 코아물질의 손실을 최소화할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-22
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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