일반기술
엑스-레이(X-ray) 마스크의 흡수체 및 그 제조방법
기술의 개요 - 본 기술은 엑스-레이(X-ray) 마스크의 흡수체 및 그 제조방법에 관한 것이다.기술의 특징 - 본 기술은 멤브레인위에 결정질상을 갖는 텅스텐나이트라이드(WNX)층을 증착하는 스텝과, 결정질상을 갖는 텅스텐나이트라이드(WNX) 층위에 비정질상을 갖는 텅스텐나이트라이드(WNX)층을 증착하는 스텝, 결정질상을 갖는 텅스텐나이트라이드(WNX)층과 비정질상을 갖는 텅스텐나이트라이드(WNX)층을 열처리하는 스텝으로 구성되어있다.기술의 효과 - 본 기술은 적응력, 안정성, 우수한 표면 조도, 높은 밀도를 갖는 흡수체를 제작할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-25
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.