일반기술
반도체 소자의 제조방법
본 기술은 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 활성층 형성시에 확산법을 이용함으로써 공정단가를 낮추고, 소자의 동작특성을 개선시킬 수 있도록 한 반도체소자의 제조방법에 관한 것이다.- 특징확산법을 이용한 활성층 형성 공정으로 얇은 활성층 형성이 가능하고, 불순물의 급준성을 향상시킬 수 있음은 물론 고가의 제조장비를 사용하지 않아도 되므로 공정단가를 낮출 수 있다.소자의 기생저항인 일부 영역만을 도핑농도를 높일 수 있으므로 소자의 동작전류를 높일 수 있고, 소자의 이득을 향상시킬 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-25
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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