일반기술
엔이에이 성질을 갖는 실리콘 표면의 패턴 형성방법
본 기술은 NEA(Negative Electron Affinity) 성질을 갖는 물질 표면의 패턴 형성방법에 관한 것으로, 특히 NEA 성질을 갖는 실리콘 표면의 패턴 형성방법에 관한 것이다.- 특징값이 싼 실리콘 기판을 사용하므로 화합물 반도체 기판에 비해 전체적인 공정가가 낮아지고 제조 공정이 수월하다.패턴된 NEA 실리콘 소자를 전자원으로 이용하여 영상 표시 장치와 같이 여러 분야에 응용될 수 있어 산업상 이용 분야가 넓다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-25
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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