일반기술
이광편광법을 이용한 분무측정기술
액적으로 이루어진 분무의 특성 중 평균면적 크기 및 SMD의 값과 분포 그리고 분무의 농도를 측정하는 기술로 이론적으로 알려진 입자의 편광특성을 이용한 것이며, 두개의 서로 다른 파장의 광을 사용하고 평균하는 방법으로 입자의 크기를 측정동일한 시간에 전체 분무 특성을 측정 및 해석 가능. 짧은 시간안에 전체 분무 특성을 측정할 수 있음. 고온, 고압의 분무 조건에서 분무의 특성 파악 가능.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 산업용 전기전자
- 보유기관
- 한국항공우주연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-11-22
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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