일반기술
퓨전 기판 위에 ＧａＡｓ을 형성하는 방법
본 기술은 GaAs을 형성하는 방법에 관한 것으로, 특히 퓨전 기판(fusion substrate) 위에 GaAs을 형성하는 방법에 관한 것이다.- 특징GaAs 기판이 아닌 다른 기판 위에도 우수한 GaAs층을 구현함으로써, GaAs의 장점과 퓨전 기판의 장점을 취합하여 성능이 우수한 소자들을 제작할 수 있다.포토다이오드, 레이저 다이오드, 발광 다이오드 등의 광소자와 HEMT(High Electron Mobility Transistor), HBT(Heterojunction Bipolar Transistor) 등의 전자소자를 제작하는데 매우 용이하다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-26
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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