일반기술
고분해능 초전도 양자간섭소자 주사현미경
기술의 개요 - 본 기술은 시편표면의 미세자기장 분포에 대해 높은 정밀도를 갖는 이미지를 얻을 수 있는 고분해능 초전도 양자간섭소자 주사현미경을 제공하기 위한 것이다.기술의 특징 - 본 기술은 시편의 미세자기장을 측정하기 위한 초전도 양자간섭소자와, 초전도 양자간섭소자를 구동하기 위한 FLL(Flux locked loop) 회로, 초전도 양자간섭소자에 인가되는 시편의 자기장을 상쇄시키는 자기장을 발생하는 피드백코일, 초전도 양자간섭소자를 저온으로 유지시키기 위한 비자성 저온용기와, 비자성 저온용기 내의 초전도 양자간섭소자를 저온으로 유지하기 위한 냉각장치, 저온용기의 외부에 위치하고 시편을 올려놓아 지지하기 위한 시편지지대와 그것을 이동시키기 위한 시편지지대 이동장치, 저온용기 외부에 위치하고 초전도 양자간섭소자의 픽업루프(Pick-up loop)를 관통하여 시편의 스트레이 필드(Stray field)를 초전도 양자간섭소자까지 전달하기 위한 연자성 탐침으로 구성된 것이 특징이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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