일반기술
엠씨브이디 공정에서 자성 유체를 이용한 가스공급장치
본 기술은, 광섬유의 모재인 프리폼(Preform)의 제조공정인 엠씨브이디 (MCVD) 장치에 관한 것으로, 반응가스의 기밀에 자성 유체를 이용하여 반응가스가 외부로 새는 것을 확실하게 방지할 수 있도록 하는 엠씨브이디 공정에서 자성 유체를 이용한 가스공급장치에 관한 것이다. 본 기술은 MCVD 공정에서 유리관의 회전을 지지하고 반응가스를 공급하는 샤프트의 실링구조로서, 상기 샤프트에 베어링을 매개로 회전 가능하게 설치되어 유리관과 연결되는 로터리커넥터에 영구자석을 설치하고, 이 영구자석의 양측에 자기장 형성을 위한 폴 피스(pole piece)를 설치하여 이 폴 피스와 샤프트 사이에 자성 유체를 충전하여 구성한 것을 특징으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 물리학 > 기타 광학
- 보유기관
- (재)광주테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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