일반기술
냉각 가스 순환을 통한 광섬유 냉각장치
본 기술은, 냉각 가스 순환을 통한 광섬유 냉각장치에 관한 것으로, 특히 냉각부재를 2원화하여 순환시키도록 함으로서 냉각 가스의 온도를 낮게 유지하여 냉각 효율을 향상시키며, 강제 순환에 의해 냉각 장치 내에서의 냉각 가스의 속도를 증가시켜서, 광섬유와 냉각가스의 열교환에서 열전달 계수를 크게 하여 냉각 효율을 높이도록 하는 것을 특징으로 하는 냉각 가스 순환을 통한 광섬유 냉각장치에 관한 것이다. 광섬유가 관통되는 공간부를 갖으며, 상기 공간부로 냉각물질이 순환되고, 제 1 내벽과 제 1 외벽 사이로 냉각수가 흐르는 제 1 냉각부재와; 상기 제 1 냉각부재에 연결되어 냉각물질을 재순환 시키는 공간부를 갖고, 상기 제 1 냉각부재를 흐르는 냉각수가 통과하도록 제 2 내벽과 제 2 외벽을 갖는 제 2 냉각부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료 공정기술
- 보유기관
- (재)광주테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.