일반기술

고순도 석영분말을 이용한 광파이버 프리폼의 제조방법

본 기술은, 광파이버 소선을 제조하기 위한 광파이버 프리폼(preform)의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 MCVD법에 의해 성형된 코어층위에 플라스마(plasma)열원 분위기상에서 제조되는 고순도의 석영분말을 압축, 성형시켜 고품질의 광파이버 프리폼을 제조하는 방법에 관한 것이다. 종래의 MCVD법은 손실율이 작은 고품질의 광파이버를 제조하기에는 용이하나 크래드층을 형성하는 2차 튜브의 제조가 어렵고 가격도 비싸 제조비용이 많이 소요되며 2차 튜브의 크기가 제한되어 대형 프리폼을 제조하기 곤란하다는 문제점이 있다. 본 기술의 공정을 거쳐 생성되는 광파이버 프리폼은 수분 등의 불순물 함유량이 적을 뿐만 아니라 몰드를 이용하여 크래드츨을 부착시키므로 대형의 프리폼의 제조가 용이하다. 또한, 플라스마 분위기에서 형성된 고순도의 석영분말을 사용하여 크래드층을 형성시키므로 광파이버 프리폼의 제조가 용이할 뿐만아니라 프리폼의 제조비용을 줄일수 있는 효과를 가진다.