일반기술

폐실리콘으로부터 고순도 실리콘 분말 및 질화규소 분말의 제조방법

[구성] 본 발명은 반도체의 제조에 있어서의 실리콘 웨이퍼 가공 공정에서 발생하는 폐실리콘 슬럿지, 실리콘 잉곳의 상하 절단부 및/또는 폐실리콘 웨이퍼로부터 고순도 질화규소 분말을 얻는 방법에 관한 것이다. 이 방법은 폐실리콘 슬럿지로부터 질화규소 분말을 얻고자하는 경우에는 폐실리콘 슬럿지를 중성 용액, 산성 용액 및 알칼리성 용액으로 각각 세척하고, 각각의 세척후마다 여과하는 단계와; 결과되는 실리콘 분말을 증류수로 세척한후 알콜로 세척하며, 이때 각각의 세척후마다 여과하는 단계와; 상기 실리콘 분말을 건조시키는 단계와; 상기 실리콘 분말을 크기에 따라 분류하는 단계와; 상기 실리콘 분말을 질화 반응 가스와 접촉시켜서 질화시키는 단계를 포함한다. 그리고, 실리콘 잉곳의 상하 절단부 및/또는 폐실리콘 웨이퍼로부터 고순도 질화규소 분말을 얻고자하는 경우에는 실리콘 잉곳의 상하 절단부와 파편, 도가니내의 잔류 실리콘 결정 또는 폐실리콘 웨이퍼를 직경 약 1㎝ 정도의 파편으로 1차 분쇄하는 단계와; 상기 파편을 증류수 및 알콜로 세척하고, 이때 각각의 세척후마다 여과를 실시하는 단계와; 상기 파편을 건조시키는 단계와; 상기 파편을 2차 분쇄하여 미세한 실리콘 분말을 얻는 단계와; 상기 실리콘 분말을 크기에 따라 분류하는 단계와; 상기 실리콘 분말을 질소 반응 가스와 접촉시켜서 질화시키는 단계를 포함한다....