일반기술
순수광학이성질체 제조용 분자각인 고분자 분리막 및 이의 제조방법
본 발명은 광학이성질체 분리효율의 극대화를 위한 분리막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폴리설폰 용액을 이용하여 다공성 지지체를 제조하고 피페라진(PIP)과 트리메소일클로라이드(TMC)를 계면중합하여 분리막 표면에 폴리 아마이드 활성층을 갖는 복합막 제조과정에서 (D)-세린과 같은 분리하고자 하는 특정 광학 이성질체를 복합막의 활성층에 분자각인 (Molecular Imprinting) 시킴으로써 특정물질의 선택적 분리효율을 극대화 시킬 수 있으며 장시간 높은 분리효율을 유지 시킬 수 있는 분리막 제조방법에 관한 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-03-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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