일반기술

극소형 금형 및 마스크 제작방법

본 발명은 레이저 장치와 광경화성 수지를 이용한 극미세 광조형장치를 이용하여 나노급 정밀도를 가진 극미세 형상과 그 형상의 패턴을 제작한 후, 이를 바탕으로 극소형 금형 및 마스크(mask)를 제작하는 것을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 구성은 다음과 같다. 임의의 형상을 극미세 형상으로 복제하고, 수지의 반복적인 패턴을 제작하는 복제/복화 공정, 복화/복제 공정으로 제작된 패턴을 이용하여 극소형 금형 제작공정, 복화/복제 공정으로 제작된 패턴을 이용하여 마스크 제작공정으로 이루어진다. 또한, 상기 공정에 사용되는 장치를 살펴보면 다음과 같다. 광경화성 수지와 레이저를 이용하여 극미세 형상으로 복제하고, 그 패턴을 제작하는 극미세 복화 공정장치, 극소형 금형 제작 공정에 사용되는 장치로서 에칭(etching) 장비, 본딩(bonding) 장비를 포함하며, 마스크 제작공정에 사용되는 장치로서 스퍼터링(sputtering) 장비, 폴리싱(polishing) 장비, 애싱(ashing) 장비를 포함한다.본 발명은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 나노급 정밀도를 가진 극미세 형상과 그 형상의 패턴을 바탕으로 금형을 제작하여 초정밀도를 추구하였으며, 기존의 공정수를 줄이고, 저비용의 새로운 공정을 제안하여 공정 단순화 및 원가 절감효과가 큰 마스크 패턴 형성방법을 제공하고 있다.