일반기술

헤테로고리를 포함하는 이광자 염료

헤테로 고리를 포함하는 이광자 염료가 제공된다.본 발명에 따른 이광자 염료는 이광자 단면적 및 형광 양자효율이 크고 광안정성이 우수하기 때문에, 광전소자 또는 생체 영상 등의 다양한 분야에 유용하게 사용될 수 있다.

기술정보

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