일반기술

나노 트랜스퍼 몰딩 및 마스터 기판을 이용한 리소그래피의 방법과 나노 트랜스퍼 몰드 제조 방법

<기술의 개요> 본 기술은 리소그래피 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 마이크로미터에서 나노미터 수준의 패턴까지 형성할 수 있는 나노 트랜스퍼 몰드 또는 마스터 기판을 이용하여 패턴을 전이하는 리소그래피 방법에 관한 것이다. 본 기술에 따른 리소그래피 방법은, 나노미터 수준의 패턴이 형성되어 있는 나노 몰드 위에 마스크 층을 스핀 코팅하여 마스크 층의 표면을 균일하게 하는 단계와, 그 단계를 통해 마스크 층이 균일하게 도포된 나노 몰드를 박막이 증착되어 있는 기판 위에 붙이는 단계, 나노 몰드를 제거하고 기판 위의 박막이 나타날 때까지 마스크 층을 식각하는 단계 및 이전 단계를 통해 식각되지 않은 마스크 층 패턴을 마스크로 하여 박막을 식각하고 마스크 층패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것이다.<기술의 특징> - 제 1 단계 : 나노미터 수준의 패턴이 형성되어 있는 나노 몰드 위에 마스크층을 스핀 코팅하여 마스크층의 표면을 균일하게 함. - 제 2 단계 : 마스크층이 균일하게 도포된 나노 몰드를 박막이 증착되어 있는 기판 위에 붙임. - 제 3 단계 : 나노 몰드를 제거하고 기판 위의 박막이 나타날 때까지 마스크층을 식각. - 제 4 단계 : 식각되지 않은 마스크층 패턴을 마스크로 하여 박막을 식각하고 마스크층 패턴을 제거.<기술의 장점> - 시간과 비용을 극소화하면서 양산성 있는 나노미터 수준의 리소그래피까지 수행할 수 있음.