일반기술

평판형 광도파로의 제조방법

기술의 개요 - 본 기술은 열처리 단계에서 고순도의 불활성/환원성 기체를 흘려줌이 없이도 매우 간단하게 환원성 분위기를 제어할 수 있는 방법을 포함하는 리튬이차전지용 양극 분말의 제조방법에 관한 것이다.기술의 특징 - 본 기술은 먼저 기판 상에 하부 클래드 층을 코팅하고, 광도파로는 도핑한 무기-유기 혼성 매트릭스 용액을 이용하여 코팅한 후 이때 하부 클래드층과 광도파로는 통상의 방법으로 형성한다. 용액을 코팅하기 전에는 코팅 면의 주의 깊은 세척이 필요하며, 이러한 세척 공정은 막질에 영향을 줄 수 있는 먼지나 다른 외부 물질을 제거하는 데 있어 유용한 공정이고, 다음으로 광도파로에 원하는 형태를 가진 마스크와 특정 파장을 갖는 광을 조사하여 패터닝 과정을 수행한다.기술의 장점 - 본 기술은 별도로 광도파로의 식각 공정을 필요로 하지 않으므로 많은 수의 제조 단계를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 광손실이 적은 평판형 광도파로를 제조할 수 있는 장점이 있다.