일반기술

고온압축성형기법을 이용한 Lid Glass 제작기술

<기술개요>- Lid Glass는 Fiber array, Ferrule array, Fanout block, Silica optical, waveguide chip 및 Splitter 등의 광통신 부품에 필수적으로 사용되는 부품임.- V-Groove의 소재를 Quartz 또는 Silicon을 사용하므로 Lid Glass는 이와열적인 특성 등이 동일하거나 유사한 소재를 사용되므로 Quartz 또는 Pyrex를 사용함.- 그러나 기존방식은 Quartz를 고온압축성형하는 방법과 Silicon을 에칭하여 Lid Glass를 제작하였으나, Quartz의 고온압축성형법은 core pitch의 정밀도에 한계가 있고 제작비용이 크게 소요되며, Silicon의 에칭법은 V홈의 깊이가 불충분하고 양산의 한계점이 있음.- 따라서 core pitch의 높은 정밀도 및 양산성 등을 해소하기 위한 방법으로서 concave(凹) 및 convex(凸) 정밀면을 갖는 초정밀 금형을 제작하여 고온압축성형기법을 이용한 대면적 Lid Glass 제작기술을 개발함.<기술의 특징>- 기존의 Quartz의 고온압축성형법과 Silicon의 에칭법이 가지고 있는 제작비용 및 정밀도의 한계점 해소.- Lid Glass Mold Base φ50, φ70, φ110에 코어 및 주변 부품의 금형 설계 기술력 확보, 5줄 이상에 홈의 깊이 0.05mm, 공차는 -0.002mm로 정밀 제작 등을 통한 DB 구축.- 표면 조도 Ra0.09이하로 폴리싱 가공, Mold Base에 소재 밀도를 높이기 위하여 함침 공정을 병행한 Cr layer 60㎚, Ir layer 300㎚의 코팅으로 금형 수명을 6,800 Shot 이상 향상.- 성형 크기 50×50, 성형 Cycle time 15분 11초, 성형 온도 720℃ 등의 최적조건 도출로서 양산효과 우수.