일반기술
도전성 입자의 제조 방법
본 기술은 고분자 수지 기반 입자를 준비하는 단계와 고분자 수지 기반 입자 표면에 나노 분말의 층을 형성하는 단계와 형성된 나노 분말층 위에 무전해 도금을 수행하는 단계를 포함하는 도전성 입자의 제조 방법에 관한 것이다.본 기술에 따르면, 나노 분말을 고분자 수지 기반 입자 위에 부착하고 무전해 도전층을 도금하여 종래의 도전성 입자 제조를 위한 도금 공정의 전처리 공정을 생략하고 두 번의 도금 공정을 한 번의 도금 공정으로 단순화하며 종래의 공정에서 발생하는 유해 물질을 줄임으로써 공정의 안전성을 높이고 제조 단가를 낮출 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 전자부품연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-06-11
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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