일반기술

광학 현미경을 이용한 포토 리소그래피 시스템

1. 기술의 개요 일반 연구실에서 일반적으로 사용하는 광학 현미경을 이용한 포토 리소그래피 시스템(Photo Lithography System)으로, 대량 생산을 목적으로 하지 않는 단위 사이즈의 실리콘(Silicon) 기판을 이용하는 소규모 연구 활동에서 고가의 포토마스크(Photo Mask)를 사용하지 않고 일반 컴퓨터를 이용하여 다양한 종류의 선택적인 패턴을 기판 위에 형성할 수 있다. 특히 광학 현미경에서 발생시키는 광원의 크기를 조절할 수 있어 수 마이크로미터(micrometer)크기의 패턴도 별도의 마스크 제작비용 없이 저렴하게 형성이 가능하다.2. 기술의 특징 광학 현미경을 이용한 리소그래피 시스템(Lithography System)은 기존에 사용하는 광학 현미경을 사용함으로써 종래의 고가의 리소그래피 장비가 필요 하지 않아 장비 구입 및 마스크 제작 및 마스크 공정비용을 절감할 수 있는 탁월한 효과가 발생한다. 뿐만 아니라 장비의 관리 및 유지 보수 특성이 우수하며, 소량의 다양한 패턴을 작업할 수 있으므로 포토리소그래피의 장비 활용도가 적은 연구실에서도 유용하게 사용할 수 있으므로 반도체 관련 연구뿐만 아니라 관련 기술이 필요한 연구 활동에서의 활성화에도 기여할 수 있는 탁월한 효과가 발생한다.