일반기술
실리콘 및 화합물 반도체의 이온빔 식각장치 및 방법
1. 기술의 개요본 기술은 실리콘 및 화합물 반도체의 이온빔 식각장치 및 방법에 관한 것임.2. 기술의 특징식각가스 밸브를 조절하여 샤워링을 통해 일정 시간동안 진공챔버 내에 식각가스를 유입시키는 단계와, 일정 시간후 식각가스 밸브를 닫고 진공챔버에 형성된 가스 배출구를 통해 진공챔버 내에 남아있는 식각가스를 제거하는 단계와, 셔터를 개방하여 아르곤(Ar) 이온빔을 조사시켜서 휘발성 식각 부산물의 형태로 식각하는 단계 및 진공챔버의 가스 배출구를 통해 식각 부산물을 제거하는 단계를 포함하여 이루어지고, 각 단계들은 주기적이고 반복적으로 수행됨으로써 이루어짐.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-09
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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