일반기술
고 내식성 유기 고분자 박막의 고속제조 방법
1. 기술의 개요본 기술은 플라즈마 보조 화학 기상 증착법으로 티오펜(C 4 H 4 S) 및 톨루엔(C 7 H 8 )등과 같은 유기물질들을 전구체로 이용하여 높은 내식성을 가지는 유기 고분자 박막을 고속 제조하는 방법에 관한 것임.2. 기술의 특징아르곤과 수소의 혼합 기체를 공급하면서 티오펜, 톨루엔, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산, 에틸사이클로헥산 또는 자일렌으로 이루어진 군에서 선택되는 유기 물질을 내식성 처리를 필요로 하는 소재위에 플라즈마 보조 화학기상증착시키는 것을 특징으로 함.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-09
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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