일반기술
N₂0 반응 가스를 이용한 산화물 박막 증착 방법
일정한 비율의 불활성 가스와 반응 가스의 플라즈마를 발생시켜서 목적하는 조성의 타겟으로부터 입자를 방출시키고 이입자를 기판 상에서 성장시켜 증착시키는 것을 포함하는 강유전 산화물 박막의 제조방법에 있어서, 반응 가스로서 N2O를사용하는 것을 특징으로 하는 강유전 산화물 박막의 제조 방법이 제공된다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학공정
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-11-22
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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