일반기술
자기장을 이용한 초대면적 플라즈마 발생장치
1. 기술의 개요본 기술은 자기장을 이용한 초대면적 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 식각 기판이 장착되는 스테이지가 구비된 반응챔버와 다수의 안테나 봉이 연결된 제1 및 제2안테나가 서로 대향 교차되되 병렬로 배치되어 구성된 안테나 소스로 이루어진 유도결합 플라즈마 발생장치를 의미한다.2. 기술의 특징안테나 봉은 상부에 복수개의 자성체가 구비되어 안테나 소오스를 구성하도록 함으로써 플라즈마 균일도를 증가시킬 수 있고, 기판의 크기에 따라 안테나의 간격을 조절할 수 있어 향상된 균일도를 유지시킬 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-09
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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