일반기술
삼중그리드를 이용한 반도체 식각용 중성빔 소오스
1. 기술의 개요본 기술은 삼중그리드를 이용한 반도체 식각용 중성빔 소오스(NEUTRAL BEAM SOURCE)에 관한 것이다.2. 기술의 특징플라즈마 발생챔버와 그리드 어셈블리와 반사체를 구비한 중성빔 식각장치에 있어서, 그리드 어셈블리는 3개의 그리드를 중첩시켜서 이루어지되, 플라즈마 발생챔버에 인접된 최상부의 제1그리드에는 양(+)전압을 인가하여 가속시키고, 중간부의 제2그리드에는 접지를 연결하며, 최하부의 제3그리드 및 반사체에는 제1그리드 보다 낮은 양(+)전압을 인가함으로써, 낮은 이온 에너지에서도 높은 이온 플럭스(FLUX)량을 얻을 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-11
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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