일반기술

원형 마그네트론 스퍼터링 장치

1. 기술의 개요본 기술은 기존의 원형 마그네트론 증착원의 단점인 고균일, 대면적 증착의 문제를 자장설계 및 편심 구동방식을 통하여 극복하여 고균일, 대면적 증착이 가능한 마그네트론 스퍼터링 장치에 관한 것이다.2. 기술의 특징절연된 원형 타겟 장착부를 챔버에 장착한 후 장착부 뒤편에서 영구자석을 통하여 폐회로를 형성한 자장 구동부가 편심 회전구동을 함으로써, 균일한 침식을 통한 고효율 타겟 수율을 실현함과 동시에 대면적 균일 코팅을 특징으로 한다. 대면적 원형 타겟의 중심과 외곽부위의 선속도 차이에 의한 증착 불균형을 해소하기 위하여 타겟 정중심의 증착을 억제하고 중앙부위의 자장을 균일 배열하며, 외곽부분은 비대칭 자장배열을 통한 고속 증착을 가능하게 하는 대면적 원형 증착원으로서, 고자장 영구자석의 조합으로 이루어지는 영구자석 폐회로부와, 이러한 영구자석 폐회로부를 타겟 표면에 평행한 방향으로 회전시키는 회전부 및 진공확보가 가능하며 챔버와 절연된 타겟 장착부로 구성된다. 이러한 조합에 의하여 타겟 전면에 균일한 방전트랙을 형성시키고 타겟 전면이 균일하게 침식됨에 따라 대면적, 균일 코팅이 가능하게 하고, 타겟의 사용효율을 80%이상 증가시키는 것을 특징으로 한다.