일반기술

개선된 이온빔 소오스 및 반사체의 세정방법

1. 기술의 개요본 기술은, 이온빔 소오스에서 세정가스를 이온빔 소오스에 주입하고, 플라즈마 발생챔버가 오프된 상태에서, 반사체에 고전압을 인가하여 세정가스를 플라즈마화하고, 이 플라즈마가 반사체의 표면과 작용하여 반사체를 세정하는 것을 특징로 하는 반사체 세정방법을 제공한다. 2. 기술의 특징본 기술은, 고주파의 고전압을 인가하여 주입된 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생챔버와, 플라즈마로부터 특정 극성을 갖는 이온빔을 추출하여 통과시킬 수 있는 그리드홀이 각기 대응하는 위치에 적어도 하나 이상 형성되어 있으며, 이온빔 통과 방향으로 일정 간격을 유지하며 이격되는 복수의 그리드로 이루어지는 그리드 어셈블리 및, 이 그리드 어셈블리로부터의 이온빔을 중성빔으로 전환시키는 반사체를 구비하여 구성되는 이온빔 소오스에 있어서, 반사체에 플라즈마를 발생시킬 수 있는 고전압이 인가될 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 이온빔 소오스를 제공한다