일반기술
중성빔 식각장치를 이용한 식각방법
1. 기술의 개요이온빔 추출 및 가속 단계에서, 식각 가스로 CF계열의 가스를 사용하여 이온빔을 추출하는 것을 특징으로 하는 중성빔 식각장치를 이용한 식각방법을 제공한다. 여기서, 식각 가스는 CF4이고, 첨가가스는 H2인 것이 바람직하다. 이에 의해, PR과 실리콘 및 실리콘옥사이드의 선택비를 크게할 수 있다.2. 기술의 특징본 기술은 이온소오스로부터 일정한 극성을 갖는 이온빔을 추출하여 가속시키는 단계, 가속된 이온빔을 반사체에 입사되는 이온빔의 입사각을 제어하여 반사시켜 이온빔을 중성빔으로 전환시키는 단계 및 중성빔의 진행경로상에 피식각기판을 위치시켜 중성빔에 의해 피식각기판상의 특정 물질층을 식각하는 단계를 구비하여 이루어진다.
기술정보
- 기술분류
- 물리학 > 기타 광학
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-11
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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