일반기술

전도성 탄소계 나노구조 코팅장치 및 방법

1. 기술의 개요본 기술은 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치 및 방법에 관한 것으로, 진공챔버와 피코팅제와 전원공급부를 구비한 전도성 탄소계 나노구조 코팅장치에 있어서, 별도의 시드(SEED) 형성을 위한 이중 공정이 필요치 않은 단순한 합성 공정과 200℃ 이하의 낮은 합성 온도에서 피코팅재상에 나노구조 탄소층을 합성하도록 함으로써 비정질 탄소기지내에 SP2 나노 클러스터가 포함된 구조가 나타나도록 경도값을 10~35GPA, 전기비저항을 10-6Ω·㎝부터 10-2Ω·㎝ 까지 제어가능하며, 다층구조를 도입하여 잔류응력을 50%이상 감소시킬 수 있는 효과가 있다. 2. 기술의 특징진공챔버와 서로 대향되는 양측에 각각 구성되어 피코팅재 상에 전도성 나노구조 탄소층을 합성하기 위한 제1 및 제2 타겟이 각각 장착된 제1 및 제2 마그네트론원, 진공챔버 내에 진공챔버와 절연되도록 구성되며, 전원공급부에서 공급된 직류 바이어스 전압이 공급된 상태에서 피코팅재를 회전시켜 제1 및 제2 타겟으로부터 방출된 타겟 재료에 의해 전도성 나노구조 탄소층이 피콩팅재 상에 합성되도록 하는 회전식 지그, 및 전원공급부를 제어하여 제1 및 제2 타겟에 동시 또는 어느 하나에만 직류 바이어스 전압이 공급되도록 제어함과 동시에 회전식 지그에 직류 바이어스 전압이 공급되도록 제어하는 제어부를 포함하여 구성된다.