일반기술

저유전 플라스마 중합체 박막의 제조 방법 및 이로부터 제조된 저유전 박막

1. 기술의 개요본 기술은 저유전 플라즈마 중합체(PLASMA POLYMERIZED) 박막 제조 방법 및 이를 이용하여 형성된 저유전 풀라즈마 박막에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 PECVD(PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) 방법을 이용한 저유전 플라스마 중합체 박막의 제조 방법에 관한 것이다.2. 기술의 특징본 기술은 거품기내에서 데카메실사이클로펜타실옥제인과 사이클로헥산를 포함하는 전구체를 증발시켜 전구체 용액을 증발시키는 단계, 증발된 전구체를 거품기로부터 배출하여 플라즈마 증착용 반응기로 유입시키는 단계, 반응기의 플라즈마를 이용하여 반응기 내의 기판 위에 플라즈마 중합된 박막을 증착하는 단계를 포함한다. 이와 같이 제조된 본 기술에 따른 박막은 열적으로 안정하고 매우 낮은 유전상수를 갖는 박막 구조로 형성되어 금속 다층 박막을 제조하는데 있어서 효과적이다.