일반기술
화학보조 중성빔 식각 시스템 및 식각 방법
1. 기술의 개요화학보조 중성빔 식각 시스템 및 식각 방법에 관한 것으로, 종래 기술의 문제로 되었던 중성화율뿐만 아니라 빔의 방향성의 문제를 해결할 수 있다. 2. 기술의 특징이온빔을 생성하기 위한 가스를 주입하는 이온빔 발생 가스 주입구, 이온빔 발생 가스 주입구를 통해 도입된 가스로부터 극성을 갖는 이온빔을 생성하는 이온원, 이온원의 한쪽 단부에 마련된 그리드 어셈블리 및 그리드 어셈블리에 대응하여 마련되어 이온빔을 중성빔으로 전환시키는 반사체로 구성되는 중성빔 발생장치와 반응성 가스를 공급하기 위한 반응성 가스 주입구, 중성빔의 진행 경로상에 피처리 기판을 위치시키는 스테이지 및 반응성 가스 주입구와 연결되고, 피처리 기판으로 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 공급수단으로 구성되는 반응 챔버의 구성을 마련한다.
기술정보
- 기술분류
- 정보 > 기타 시스템 소프트웨어
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-11
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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