일반기술
탄소나노튜브를 이용한 도전성 볼의 제조 방법
본 기술은 탄소나노튜브를 이용한 도전성 볼의 제조 방법에 관한 것으로, 중합체 비드에 직접 술폰화 과정을 통해 표면을 술폰기로 개질시키고, 개질된 표면에 반복적 자기집합 단층막을 통해 아민기가 노출된 다층막을 형성시키고, 다층막 표면에 카르복실기로 개질된 탄소나노튜브를 적층시켜 도전성 볼을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 기술의 의해 제조된 도전성 볼은 전기전도성이 우수한 탄소나노튜브를 표면에 코팅시킴으로써, 도전성 볼의 전기전도성을 향상시킬 수 있어 미세패턴 응용에 유리하며, 또한 반복적 자기집합 단층막에 의해 이온결합된 다층막으로 형성시키므로써, 중합체와 금속간의 특성차이로 인해 발생되는 도전막의 균열을 방지할 수 있으며, 제조 공정 또한 단순화할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 성균관대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-16
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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