일반기술
보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
본 기술은 미세 형광 화상 형성 재료인 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체와, 이를 이용한 미세 형광 화상 형성 방법에 관한 것이다. 본 기술의 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체는 히드록시기의 분자내 수소결합을 한시적으로 차단한 다음 산, 열 또는 광 등에 의해 탈보호되어 색 및 형광의 변화를 일으키고, 일반적인 고분자와 혼합시 코팅이 용이하기 때문에, 화학증폭성 미세 화상 형성 공정 조건에서 쉽게 미크론미터 단위의 미세 형광 화상을 형성할 수 있어서, 기록용 재료 및 센서 재료로 응용될 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 고분자재료
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.