일반기술
입체 고분자 재료의 표면처리방법
본 기술은 3차원 입체 고분자 소재 및 제품의 표면특성 및 표면의 전기전도도를 향상시키기 위하여 플라즈마 이온주입 기술을 이용하는 표면개질 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 플라즈마 이온주입 기술은 대면적의 3차원 입체시료의 표면에 균일하게 이온을 주입하여 표면개질을 이룰 수 있는 기술이다. 본 기술에서 고분자 시료 주위의 금속성 그리드에 음의 고전압 펄스가 가해지면 플라즈마로부터 이온이 추출되어 그리드를 향하여 가속이 되고 대부분의 이온들은 그리드를 통과하여 높은 에너지로 고분자 시료의 표면에 충돌하게 된다. 따라서, 시료대에 직접 고전압 펄스를 인가하는 방법으로는 플라즈마 이온주입이 어려운 입체 고분자 시료의 표면에 균일하게 이온주입이 이루어지게 되며 이와 같이 높은 에너지로 주입된 이온들은 고분자 표면을 개질하여 전기전도도를 매우 효율적으로 향상시킬 수 있게 된다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 고분자재료
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-07-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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