일반기술
반응성 광산발생제와 이를 포함하는 폴리아미드 감광성 내열절연체 조성물
본 기술은 감광성 내열절연체 조성물에 관한 것으로 광산발생제와 빞에 의해 감광된 부분은 현상액에 의해 용해되고, 빛을 받지 않은 부분은 남아 있다가 후공정인 가열공정에 의해 내열성고분자로 전환이 가능한 기능을 가진 아세탈 또는 이의 고리화 유도체를 즉쇄로 포함하는 폴리아미드 올리고머가 함유되어 있어 패시베이션 막, 완충막 또는 복합 다층인쇄회로기판의 층간 절연막 등으로의 사용이 가능하 감광성 내열절연체 조성물에 관한 것이다. 본 기술은 광산발생제로서 방향족 비스설포닉디이미드 화합물과 함께 에스터기를 측쇄로 포함하는 폴리아미드 올리고머가 적정 함량비로 포함되어 있어 후노광가열공정(PEB)공정의 최소화, 후노광지연효과(PED)의 영향을 최소화 할 수 있다는 장점을 갖고 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 화학공정
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-09-03
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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