일반기술

나노층상 나노입자 제조 방법

본 기술은 다중기포 음파발광 (MBSL, Multibubble sonoluminescence) 조건에서 생성된 나노 크기의 지지체 위에 나노 구조 물질의 층을 코팅하는 방법과 동일한 방법을 이용한 나노 구조 물질 합성에 관련된 기술이다. 다중기포 음파발광을 이용한 합성법을 이용하여 50nm 이하의 금속산화물(Metal oxide) 및 칼코겐 금속화합물 (Metal chalcogenides) 입자 생성뿐만 아니라 기술내용에서 언급한 물질을 나노 크기의 지지체 위에 코팅하는 기술이다. 금속산화물인 산화아연 (ZnO, Zinc oxide)과 칼코겐화합물인 황화카드뮴 (CdS, Cadmium) 등의 물질을 합성하는 방법으로 수열합성법(Hydorthermal synthetic method) 및 화학적 증기 증착법(CVD, Chemical vapor deposition)을 사용하였다. 이러한 방법은 합성시간이 오래 걸릴 뿐만 아니라 전구체(precursor)로 사용되는 유기금속이 고가이다. 이에 반해, 음파발광 다중기포를 이용한 합성법은 반응시간이 짧고 낮은 에너지를 필요로 하고 저가의 금속염을 이용한 합성이 가능하다. 또한 본 기술을 이용하여 보다 균일한 상기의 물질의 합성이 가능 할뿐만 아니라 나노 크기의 입자 생성 및 나노 지지체 위에 나노 층의 코팅 두께를 조절할 수 있는 장점을 가진다.