일반기술
확산 제한 식각과정을 이용하여 제작된 수평 변환 다공성 실리콘 광학 필터의 제작
확산 제한 식각 과정을 이용하여 수평변환 다공성 실리콘 광학 필터를 제작할 수 있다. 끝이 점점 가늘어 지는 형태의 식각 마스크 패턴을 통해 다공성 실리콘을 제작하게 되면 확산 제한 식각 현상으로 인해 가늘어 지는 마스크 패턴 방향으로 다공성 실리콘의 식각률이 증가하게 된다. 다공성 실리콘 제작에 있어서 광학 필터를 만드는 과정을 동일하게 이 방법에 적용하게 되면 식각률 변화 때문에 가늘어지는 패턴 방향으로 선형적으로 공명 파장이 변하는 투과형 광학 필터를 만들 수 있게 된다. 이 방법을 이용하면 식각 마스크 패턴을 다양하게 조절함으로써 식각률 변화의 정도, 즉 공명 파장 변화의 정도를 조절할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 물리학 > 기타 물리학
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-09-19
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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