일반기술
극대면적 UV-NIL공정에서의 균일 가압 장치 개발
마이크로/나노 패턴을 제작하는 UV-Nanoimprint Lithography (UV-NIL) 공정에서 몰드를 일정한 압력으로 가압하는 것은 패턴의 균일성과 충실도를 확보하는데 매우 중요하다. 하지만, 몰드의 크기가 커질수록 패턴의 균일성과 충실도 확보는 어려워지기 때문에 전체 면적에 균일한 압력을 가하는 것이 더욱 중요해진다. 본 기술은 유연재질에 일정한 공압을 가해주어 대면적의 몰드와 기판을 균일하게 가압함으로써, 극대면적 UV-NIL 공정에서 패턴의 균일성과 충실도를 높일 수 있다. 개발된 장비에서 레진은 진공 또는 대기 환경에서 가압될 수 있다. 균일 가압 시스템의 내구성을 확보하기 위한 가압구성 요소들의 상세 설계내용을 포함한다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 기계
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-09-19
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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