일반기술
롤스템프를 이용한 나노임프린트 장치
제안된 기술은 6인치 이상의 대면적 서브스트레이트에 100nm~50um까지의 극초미세 패턴을 연속적으로 패터닝할 수 있는 기술이며, 롤형태의 스템프를 사용함으로써 연속적인 패터닝이 가능하며, 디몰딩이 용이하고, 서브스트레이트의 표면이 굴곡을 가지더라도 패터닝이 가능함. OLED, LED, 태양광 등의 소자제작에 적용할 수 있음.- 대면적 직접방식 롤 패터닝 공정장비기술- Entrapped air 최소화 가능- 나노임프린트 기술을 응용함으로써 대면적에서 고생산성을 유지할 수 있음.- 작업크기(폭): 6in이상 가능 - 최소선폭: 50 nm 2010년 세계 시장 전망- Nano imprint : 245 Million $
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 극한·첨단 복합기계기술
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-09-25
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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