일반기술
나노임프린트응용 대면적 나노잉크 패터닝 기술
제안된 기술은 종래의 잉크젯으로는 어려운 나노잉크 또는 전도성잉크를 이용하여 수십 nm~수십 um의 패턴크기의 전극을 나노임프린트 공정장비기술을 이용하여 직접적인 방법으로 구현할 수 있는 기술이며, 공정작업 후 잔류층이 없는 전극패턴을 구현할 수 있어 나노센서, OLED 등의 소자제작에 적용할 수 있음.- 대면적 직접패터닝 공정기술- Residual zero 나노패터닝 구현 가능- 나노임프린트 기술을 응용함으로써 대면적에서 고생산성을 유지할 수 있음.- 작업크기: 6in/회 가능 - 최소선폭: 50 nm 2010년 세계 시장 전망- Nano imprint : 245 Million $
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 극한·첨단 복합기계기술
- 보유기관
- 한국기계연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-09-25
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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