일반기술

태양전지용 실리콘 기판의 텍스처링 장치 및 그 방법

본 기술은 태양전지용 실리콘 기판의 텍스처링을 위한 화학적 플라즈마 식각공정에 있어서,F 라디칼과 주입된 NO를 주성분으로 하여 식각함으로써 표면을 텍스처링하는 태양전지용 실리콘 기판 텍스처링 방법과 그 장치를 제공한다.본 기술은 태양 전지용 반도체 기판의 텍스처링(texturing) 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 간단하고 경제적으로 반도체 기판을 텍스처링할 수 있는 태양 전지용 반도체 기판의 텍스처링 방법에 관한 것이다.본 기술이 적용될 경우 한 장비 내에서 텍스처링 공정과 반사 방지막 증착 공정이 동시에 수행 될 수 있으므로 생산성 증가 효과를 볼 수 있다.플라즈마를 이용한 다결정 실리콘 기판 텍스처링 공정의 고비용으로 인해, 이후 저비용 텍스처링 공정에 적용이 예상 된다.본 기술은 간단한 공정을 이용하여, 경제적으로 실리콘을 텍스처링 할 수 있는 태양 전지용 실리콘의 텍스처링 방법과 기존의 텍스처링 공정 중 발생하는 기판 표면의 손상을 최소화 하며, 낮은 반사율을 갖도록 텍스처링 할 수 있는 태양 전지용 실리콘의 텍스처링 방법을 제공하는 것이다본 기술의 무손상 화학적 건식 텍스처링(chemical dry texturing) 방법은 마스크를 필요로 하지 않으며 짧은 공정시간으로 대량 생산에 용이하다는 점.