일반기술

고전자 이동도 트랜지스터 제조 방법

본 발명은 화화물 반도체를 기반으로 하는 전계효과형 메타모픽(metamorphic) 고전자 이동도 트랜지스터(HEMT : high electron mobility transistor)를 제작하는 방법에 있어, T-게이트를 기판상에 안정적으로 형성하는 방법에 관한 것으로서 기판 위에 복수의 레지스트를 순차적으로 적층하는 단계; 상기 적층된 레지스트에 전자빔 리소그래피를 이용하여 T형 패턴을 형성하는 단계; 상기 T형 패턴이 형성된 기판 위에 게이트 금속층을 형성하는 단계; 접착부재를 상기 적층된 레지스트의 최상층에 형성된 게이트 금속층과 접착되도록 한 후 상기 접착부재를 분리시킴으로써 상기 게이트 금속층을 제거하는 단계; 및 상기 적층된 레지스트를 모두 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 또한 기판 위에 복수의 에피텍셜층이 형성된 화합물 반도체에 있어서, 캡층의 하부에 형성된 식각방지층을 고농도로 도핑함으로써 반도체 소자의 기생 저항을 줄이는 것을 또 다른 특징으로 한다. 본 발명에 따르면 접착 부재를 이용한 금속 제거 기법을 이용하여 안정적으로 미세 게이트를 형성할 수 있으며, 고농도 도핑된 인듐인 식각 방지층을 도입한 에피 구조를 이용하여 기생 저항 성분을 줄임으로써 초고속 동작이 가능한 고전자 이동도 트랜지스터 제조 기법을 제공한다.